25 mm×25 mm 方形基底专为科研人员推进有源区面积放大研究而设计。搭配本公司 25 mm 方形基底蒸镀掩膜版后,单块基底可制备 4 个像素,每个像素有源区面积 48 mm²;也可制备单个大尺寸像素,有源区面积达 255 mm²