25 mm 方形基底专为科研领域实现有源区面积放大的进一步研究而开发。搭配本司蒸镀掩膜版使用时,单块基底可制备 4 个像素,单个像素有源区面积为 48 mm²;也可制备单个大尺寸像素,有源区面积可达 255 mm²