基底洁净是有机光电器件制备的首要基础。Hellmanex‑III 专为玻璃、石英基底的高效精密清洗开发,不会损伤基底表面,清洗后无残留。
常规使用配比:2 mL Hellmanex‑III 加入 200 mL 热水中;超声 5 min,随后采用溢流水冲洗。按此配比,100 mL该清洗剂可完成 50 个支架批次的基底清洗。