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3mm圆片两面均有一层50nm厚的超低张力氮化硅膜。用于AFM中需要用到氮化硅背景的场合。
产品规格
膜厚: 两面均含50nm超低张力氮化硅膜
圆片厚度: 200µm硅基底
圆片直径: 3mm
表面粗糙度:RMS(Rq)为0.65 +/- 0.06nm,平均粗糙度(Ra)为0.45 +/- 0.02nm