SPI‑Chem Hexamethyldisilazane (HMDS)｜六甲基二硅氮烷
本品常作为临界点干燥（CPD）的替代干燥试剂，尤其适合未配备临界点干燥仪的实验室。由于浸透速度快，非常适合昆虫组织样品制备；但一般而言，干燥效果整体不及标准临界点干燥法。我们仅在没有可用的临界点干燥设备时，才推荐使用 HMDS。
早期 HMDS 主要用于生命科学显微制样，近年在材料科学领域也得到广泛应用。适合使用 HMDS 干燥的场景：采用较低放大倍数开展 SEM 观测，或是样品本身不存在精细纳米结构的场景，此时 HMDS 干燥效果和 CPD 接近。 文献案例：《Hexamethyldisilazane as a Drying Agent for Pollen》，Biotechnic & Histochemistry 69, 192-198 (1994)，报道该试剂用于花粉干燥可获得良好结果。
HMDS 局限性：使用 HMDS 替代临界点干燥会造成组织收缩，结缔组织尤为明显；本品具有腐蚀性、易燃，必须在通风橱内操作。和 CPD 法相比，不少使用者认为 HMDS 的使用体验较差。
补充操作要点：对于体积偏大的样品，干燥完成后可置于 55–60 ℃真空烘箱内保温数小时，确保样品完全干透，再进行喷金，之后上机 SEM 观测；如果喷金过程中样品持续释放水汽，金膜难以沉积，样品无法获得所需表面导电层。
载玻片硅烷化改性（疏水改性）：SPI‑Chem HMDS 可用于玻璃载片疏水化处理。操作简单：将载片分开摆放，放入带 PTFE 内衬盖的广口玻璃瓶，滴入数滴 HMDS，密封瓶内蒸汽与玻片表面发生反应；70 ℃条件下瓶盖微开、保温 12 h，改性效果更佳。取出后水滴可在玻片表面形成珠状疏水效果；形成的疏水层厚度＜1 nm，肉眼不可见。
半导体行业应用：HMDS 是优良的粘附促进剂，用于提升光刻胶与硅片表面的结合力。
纳米科技应用：纳米领域一大难点是制备互不团聚、彼此分离的纳米颗粒；对于可控合成 1–50 nm 单分散纳米颗粒的研究，可采用 HMDS 作为前驱体、氧气作为氧化剂，合成二氧化硅纳米颗粒。