Avantama N‑10‑Flex 继承了原 Avantama N‑10 基础配方的综合优异性能,面向实验室级别应用开发。该材料润湿性得到提升,成膜表面粗糙度更低,可制备多种印刷电子器件结构,无需后处理工序。本品与银纳米线、钙钛矿吸光层均具备兼容性,可用于构筑多种类型器件。
产品特性: 低功函数 电导率提升 无需后处理 低表面粗糙度 润湿性优化 与银纳米线工艺兼容 适配钙钛矿吸光层 储存有效期长 不会损伤吸光层 / 发光层(正置器件结构) 可提供更高功函数规格版本